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新材料与先进制造研究所——高真空离子溅射热蒸镀系统

发布时间:2024年07月19日 16:23

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高真空离子溅射热蒸镀系统

 

品牌型号

规格参数

功能

Quorum Q150T ES Plus

 

1. 腔室真空可达到10-5mBar;   2. 镀膜方式:离子溅射和热蒸镀双模式可切换; 3. 配有旋转样品台; 4. 膜厚监控附件:可测量和预设终止膜厚。

 

镀膜:1. 溅射方式  2.热蒸镀方式。

 

 

服务领域:纳米材料领域

单位:新材料与先进制造研究所

联系人:蔺涛

联系方式:010-66020472,18500507560

仪器所在地:北京市海淀区丰贤中路7号院4号楼