认真聆听

Ulf Helmersson教授作报告

11月19日，瑞典林雪平大学（Link?ping University）Ulf Helmersson教授到北京市辐射中心进行参观访问。辐射中心常务副主任王文教授，欧伊翔和罗军副研究员进行国际合作学术交流。

Ulf Helmersson教授是瑞典林雪平大学终身教授，创办Ti? AB、Ionautics AB以及Plasm Advance AB等公司，担任董事或总裁职务，2008年评为AVS会士，主要从事等离子体基础研究及其应用领域，尤其在离子沉积领域具有重要贡献，在真空镀膜和纳米材料制备上具备广泛国际知名度，并发表学术论文200余篇，拥有多项已产业化专利技术。

Ulf Helmersson教授首先与王文代表辐射中心对Helmersson教授来访表示欢迎，并介绍了近年在等离子体膜层沉积领域研究取得的进展。 Helmersson教授的来访也是辐射中心师生向教授学习的难得机会，并对今后中瑞双方的合作与交流提出期许。Helmersson教授对辐射中心在膜层沉积领域获得的成就予以较高评价，表示对今后双方合作充满期待。

随后，Helmersson教授参观了辐射中心部分实验室，称赞本实验室在HiPIMS方面做出的前瞻性贡献，并作题为Materials Design and Depositions Using HiPIMS 学术报告，就HiPIMS的原理、放电、特性等案例讲述实际应用，分享研究经验与成果。在提问环节，现场师生就HiPIMS沉积工艺的特点，膜层的设计思路，沉积过程中等离子体的分布等问题踊跃发言，师生反响热烈，Helmersson教授耐心解答，为中心科研工作提供了新思路。

(欧伊翔 王浩琦 罗军 文/摄)